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真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜發(fā)展歷史
真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜發(fā)展歷史、蒸發(fā)鍍、磁控濺鍍、離子鍍 真空鍍膜的發(fā)展歷程：19世紀(jì)可以說一直是處于探索和預(yù)研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。1805年,開始研究接觸角與表面能的關(guān)系(Young)。1817年...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:53
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光學(xué)膜材成為國內(nèi)觸控產(chǎn)業(yè)發(fā)展枷鎖，F(xiàn)ILM & TAPE EXPO 2019或?qū)硇聶C(jī)遇
光學(xué)膜材成為國內(nèi)觸控產(chǎn)業(yè)發(fā)展枷鎖，F(xiàn)ILM&TAPEEXPO2019或?qū)硇聶C(jī)遇 很多人不理解三星為什么會慫恿行業(yè)里那么多的手機(jī)企業(yè)，大批量的使用工程塑料機(jī)殼和GF結(jié)構(gòu)電容觸摸屏，除了它在自己的機(jī)型上應(yīng)用得很成功，有示范...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:52
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光學(xué)薄膜——光學(xué)膜處于面板產(chǎn)業(yè)鏈要位，偏光片國產(chǎn)化成為趨勢
光學(xué)薄膜——光學(xué)膜處于面板產(chǎn)業(yè)鏈要位，偏光片國產(chǎn)化成為趨勢 光學(xué)薄膜是廣義具有光學(xué)性質(zhì)的薄膜產(chǎn)品，主要分為偏光片和背光模組（BLU）中用光學(xué)膜產(chǎn)品，主要應(yīng)用領(lǐng)域為TFT-LCD面板（合計占成本比重約20%+），偏光片亦需要...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:50
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偏光片的基本性能指標(biāo)
偏光片的基本性能指標(biāo)主要有：光學(xué)性能、耐久性能、粘接特性、外觀性能以及其它特殊性能幾個方面。光學(xué)性能包括：偏振度、透光率和色調(diào)三項主要性能指標(biāo)，其它還包括防紫外線性能以及半透射型偏光片半透膜的透光率、全反射率和漫反射率指標(biāo)...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:50
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“雜質(zhì)”也有大用途 | Al2O3薄膜制備工藝大總結(jié)
“雜質(zhì)”也有大用途|Al2O3薄膜制備工藝大總結(jié) 氧化鋁薄膜是鋁的一種特性，與金屬鋁的初始氧化有關(guān)，在鋁表面形成幾納米厚的“阻擋層”，能夠阻止鋁的進(jìn)一步氧化。對于鋁來說，是影響純度的雜質(zhì)，但就是這種“雜質(zhì)”，也有著不小的用...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:49
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光學(xué)薄膜設(shè)計軟件Macleod中的偏振
光學(xué)薄膜設(shè)計軟件Macleod中的偏振我們用偏振來描述光波電場的方向。雖然是很復(fù)雜，但它的影響是完全明確和可計算的。圖1顯示了一個簡單的長波通濾波器在斜入射時的計算性能，其曲線標(biāo)記為p-偏振、s-偏振和平均極化。這些名稱是...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:48
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今日項目：半導(dǎo)體光學(xué)薄膜測厚儀的產(chǎn)業(yè)化
今日項目：半導(dǎo)體光學(xué)薄膜測厚儀的產(chǎn)業(yè)化 本項目開發(fā)生產(chǎn)一種用于半導(dǎo)體芯片的全自動光學(xué)薄膜測厚儀。半導(dǎo)體集成電路芯片生產(chǎn)是以數(shù)十次至數(shù)百次的鍍膜，光刻，蝕刻，去膜，平坦等為主要工序，膜層的厚度，均勻性等直接影響芯片的質(zhì)量和產(chǎn)...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:48
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了解什么是光學(xué)膜？ 3分鐘的事
了解什么是光學(xué)膜？3分鐘的事光學(xué)膜材料是由膜的分層介質(zhì)構(gòu)成，通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。利用光學(xué)膜可以選擇性獲取某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或全部反射或是偏振分離等各種形態(tài)。不同的物質(zhì)對光有不同的反射、吸收...
發(fā)布時間：2019-09-29 10:45
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